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名称（Name）
真空式等离子处理系统
型号（Model）
CRF-VPO-2L-S
控制系统（Control system）
PLC+触摸屏
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
中频电源功率（RF Power）
1000W/40KHz
容量（Volume ）
10L(Option)
层数（Electrode of plies ）
2(Option)
腔体规格（Area）
220(W)*230(D)*230(H)
气体通道（Gas）
两路工作气体可选：Ar、N2、CF4、O2
产品概述
设备参数
产品特点
超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，精准的控制设备运行；
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求；保养维修成本低，便于客户成本控制；
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。
应用范围
真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
讲述等离子体的产生与气化过程与那些因素有关系
等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的独特现象和物质。典型的等离子的组成是，电子、离子、自由基和质子。就好象把固体转变成气体需要能量一样，产生离子体也需要能量。一定量的离子体是由带电粒子和中性粒子（包括原子、离子和自由粒子）混合组成。
离子体能够导电，和电磁力起反应。等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这时会发出辉光，故称为辉光放电处理。
等离子体的产生机理包括电离反应、带电粒子的传输以及电磁运动学等理论。等离子体的产生与气化过程伴随着电子、粒子和中性粒子的碰撞反应。等离子体中粒子的碰撞会产生活性组分。因为等离子体处理的目的是改性表面或在表面形成一层合成材料，因此在整个处理过程中，我们关注的是等离子体与材料的相互作用以及形成反应产物。
每个等离子体处理的工艺过程都会局限在一个多维参数的腔室中，这个腔室的大小决定了整个工艺的经济性、反应质量、反应性能及其他参数，这些参数可以使处理过程具有竞争性和工业应用价值。腔室的操作受许多约束条件的限制，如处理过程受等离子体的种类及反应速率的限制，处理效率受电能转化为等离子体密度方式的限制，反应产量受处理过程中某种原材料的消耗所制约等。
在等离子体辅助制造工业中。等离子体一般具有下列用途：
1.等离子体可以作为热源。
2.等离子体可以作为化学催化剂
3.等离子体可以作为高能离子流和电子流源。
4.可以作为溅射粒子源。
在很多工艺中，随处可见等离子体的这几种基本特性，这就逐渐形成了以等离子体为处理手段的基础制造业。单独的某种处理过程或几种处理过程综合作用可赋予等离子体不同的用途。例如，在等离子体中，利用等离子体的化学合成作用产生新的化学药品，或利用粒子的聚合作用在表面沉积形成薄膜等。
