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全自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APO-500W-XN
名称（Name）
全自动On-Line式AP等离子处理系统
型号（Model）
CRF-APO-500W-XN
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz
等离子功率（Plasma power）
10KW（Max）/40KHz（Option）
有效处理宽幅（Processing width）
120mm-1200mm（Option）
有效处理高度（Processing height）
3mm~8mm（Max）
处理速度（Processing speed）
0-8m/min
工作气体（Gas）
N2/N2+CDA
产品特点： 内置式冷却系统，提高和保证设备的使用寿命和性能；
灵活On-Line安装方式，电子和离子的能量可达10eV以上，
材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。
应用范围：应用于FPC＆PCB表面处理，复合型材料，玻璃，ITO等行业领域的表面处理。
采用PLC触摸屏控制真空等离子体设备，可以精准控制设备运行。维护和修理费用低，方便客户节约成本。高精度、快速响应、良好的操控性、兼容性、完善的功能及专业的技术支持。真空等离子体设备主要应用于生物医药、印刷线路板、半导体IC、硅胶、塑料、聚合体、汽车电子、航空等行业。
除清洗功能外，真空等离子体设备还可根据需要改变某些材料表面的性能，在清洗过程中，真空等离子体设备的辉光放电能增强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。它是一种非破坏性清洗设备，采用低气压激发等离子体作为清洗介质，有效地避免了液体清洗介质对被清洗物的二次污染。
该设备能去除金属表面的油脂、油污等有机物质和氧化层，也可用于汽车生产过程中的塑料和喷漆前处理。应用于纺织、滤网、膜的亲水、疏水、表面改性等方面，也可用于生物医用培养皿、血管支架、注射器、导管及各种材料的亲水、交合涂覆前处理等方面。
真空等离子体设备可用于航空航天绝缘材料、电子元件等表面涂层前处理，也可用于线路板的清洁和蚀刻。薄膜、聚丙烯等材料的无氧化、活化处理，改善了焊接性能。在半导体工业中，可用于晶片加工和处理，去除光刻胶片，封装前预处理，也可用于LED支架清洗封装前预处理。
在半导体、微电子、COG前、LCD、LCM及LED制程、器件封装、真空电子、连接器、继电器、太阳能光伏等行业的精密清洗，以及塑料、橡胶、金属和陶瓷等的表面清洗、刻蚀、灰化、活化和生命科学实验等领域。
以上介绍的都是真空等离子体设备的优点和应用，希望能对您有所帮助，如果您想了解更多有关真空等离子体设备的信息，欢迎在线咨询或致电本公司服务热线，我们将竭诚为您提供优质服务！
