Brthrper-CP-401A 陶瓷材料白色光阻剂

本品在玻璃基材与陶瓷基材上分别制作的陶瓷粉光阻材料,使用黄光制程制做的图型。支持微细电子元器件的制造。
应用用途
用于PET,玻璃,硅基传感器,片式电感器上的白色负型光阻剂,主要支持黄光制程工艺制造。
产品介绍
本品是一款用于PET,玻璃,硅基传感器,片式电感器上的白色负型光阻剂,主要支持黄光制程工艺制造。
1、性能与特点
外观:白色不透明液体
粘度:依用户用途可调
胶膜特性:成膜固化之后结构致密,与玻璃/金属/PET/陶瓷等基板结合紧密
显影干净:无残留,支持5um制程
用于各类器件的白色光阻涂层。

我们通过先进的材料技术将粒子尺寸微细化到200nm



本品在玻璃基材与陶瓷基材上分别制作的陶瓷粉光阻材料,使用黄光制程制做的图型。支持微细电子元器件的制造。
2、指标及参数

3、工艺参数
1. 涂胶:旋涂,刮涂,印刷
2. 前烘温度:90~110℃
3. 曝光:150-300mj/cm^2
4. 显影时间: 50-70秒/CKB-AMPHBAL2001,25-30℃
5. 后烘温度:120~200℃, 30~60min
4、包装及存储
包装: 1kg洁净HDPE桶,加不透光包装袋
贮存: 0~5℃避光保存;紧盖封口,于通风、阴凉处储存;贮运中避免日晒、雨淋、泄露;剩余产品密封存放
保质期:3个月
1、性能与特点
外观:白色不透明液体
粘度:依用户用途可调
胶膜特性:成膜固化之后结构致密,与玻璃/金属/PET/陶瓷等基板结合紧密
显影干净:无残留,支持5um制程
用于各类器件的白色光阻涂层。

我们通过先进的材料技术将粒子尺寸微细化到200nm



本品在玻璃基材与陶瓷基材上分别制作的陶瓷粉光阻材料,使用黄光制程制做的图型。支持微细电子元器件的制造。
2、指标及参数

3、工艺参数
1. 涂胶:旋涂,刮涂,印刷
2. 前烘温度:90~110℃
3. 曝光:150-300mj/cm^2
4. 显影时间: 50-70秒/CKB-AMPHBAL2001,25-30℃
5. 后烘温度:120~200℃, 30~60min
4、包装及存储
包装: 1kg洁净HDPE桶,加不透光包装袋
贮存: 0~5℃避光保存;紧盖封口,于通风、阴凉处储存;贮运中避免日晒、雨淋、泄露;剩余产品密封存放
保质期:3个月
公司介绍
深圳邦得凌公司于2018年11月成立,由国内最早开发触控显示领域用光阻剂的专业团队,并吸收日本特种感光高分子功能材料技术而来。
公司核心团队从事各类负型光刻胶/光阻剂(Nagtive Photo Rresist)及相应纳米复合材料开发十多年,拥有对该类材料的丰富定制化经验。并对负型类光刻胶与光刻制程之间的工艺衔接关系把握准确。
本公司除了可以为光刻器件用户提供优质的光刻胶,还是国内唯一拥有负型光刻胶用黄光树脂(Binder Polymer)量产化技术的高分子材料设计与开发团队。
此外,公司还有精细化学合成能力,已经成功开发出140余种中间体用于OLED和有机太阳能用有机半导体材料。