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BRTHRPER-651A 银纳米线光阻剂
BRTHRPER-651A银纳米线光阻剂用于制造20-50um线宽线距L/S透明电容图型；具有在玻璃基材、柔性基材或显示器表面涂布透明导电膜的特性。光刻电容图型线条精度高，方块电阻在30-100Ω/□范围可选，CD Loss低于1um。同时具有优良的耐酸耐碱，耐UV等性能。
应用用途
用于制造20-50um线宽线距L/S透明电容图型；具有在玻璃基材、柔性基材或显示器表面涂布透明导电膜的特性。产品广泛应用于智能穿戴设备，折叠手机，平板，PC电脑，车载导航，智能家居，商用教育设备等。
产品介绍
光刻纳米银线透明导电液:该项目为莱宝高科等上市公司供应触摸屏制程用材料过程总结出的新型透明导电材料。
产品使用目前世界领先的光阻技术和黄光制程工艺来实现触摸屏Pattern，彻底改变了镀膜蚀刻和激光雕刻等低效率工艺，节省了其2/3的工序，并增加了产品性能。
未来将触控技术直接做到LCD面板或OLED表面，并且改变目前On-Cell技术的良率不达标问题。
1、性能特点
外观：银灰色低粘度液体
粘度：3-5cp
固含量：1.0-2.0%；乙酸丁酯、PMA、DBE混合溶剂
成膜特性：透光率高，Pattern精度高，显影固化后导电率均匀
2、参考工艺
3、指标及参数
4、包装及贮存
包装：3.8L洁净加仑桶，加不透光包装袋；使用前振动均匀后加200目尼龙筛网泵吸上料
贮存：AB组分液紧盖封口，于通风、阴凉、干燥处储存；贮运中避免日晒、雨淋、泄露.
保质期：3个月 AB组分混合后在24小时内使用完。
产品使用目前世界领先的光阻技术和黄光制程工艺来实现触摸屏Pattern，彻底改变了镀膜蚀刻和激光雕刻等低效率工艺，节省了其2/3的工序，并增加了产品性能。
未来将触控技术直接做到LCD面板或OLED表面，并且改变目前On-Cell技术的良率不达标问题。
1、性能特点
外观：银灰色低粘度液体
粘度：3-5cp
固含量：1.0-2.0%；乙酸丁酯、PMA、DBE混合溶剂
成膜特性：透光率高，Pattern精度高，显影固化后导电率均匀
2、参考工艺
3、指标及参数
4、包装及贮存
包装：3.8L洁净加仑桶，加不透光包装袋；使用前振动均匀后加200目尼龙筛网泵吸上料
贮存：AB组分液紧盖封口，于通风、阴凉、干燥处储存；贮运中避免日晒、雨淋、泄露.
保质期：3个月 AB组分混合后在24小时内使用完。
深圳邦得凌公司于2018年11月成立，由国内最早开发触控显示领域用光阻剂的专业团队，并吸收日本特种感光高分子功能材料技术而来。
公司核心团队从事各类负型光刻胶/光阻剂（Nagtive Photo Rresist）及相应纳米复合材料开发十多年，拥有对该类材料的丰富定制化经验。并对负型类光刻胶与光刻制程之间的工艺衔接关系把握准确。
本公司除了可以为光刻器件用户提供优质的光刻胶，还是国内唯一拥有负型光刻胶用黄光树脂（Binder Polymer）量产化技术的高分子材料设计与开发团队。
此外，公司还有精细化学合成能力，已经成功开发出140余种中间体用于OLED和有机太阳能用有机半导体材料。
