█展会背景
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。
随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。由香港鲲慧展览集团、上海鲲慧展览服务有限公司于众多协会携手在深圳中亚会展中心举办“2015中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会暨发展论坛”，欢迎广大相关单位参展、参观！ 
