激光直写曝光设备/无掩膜曝光机 张凯 15995675007

• 集成电路高密度/3D封装无掩模光刻设备

• 高精密印刷电路板（PCB）激光直写（LDI）设备（单面、双面）

• 卷到卷柔性线路板激光直接曝光设备

• 触摸屏无掩模曝光设备

• 高精密光掩模和金属掩模激光直写曝光设备

• 丝网（印刷）激光直接制版设备

• TFT/OLED 显示屏无掩模光刻设备

• 大功率蓝紫激光光源

　　新诺科技是由一组长期在北美、日本和中国等地从事激光技术、半导体光刻设备研发的资深科学家和擅长高科技企业管理的团队来经营。在激光光源及无掩模光刻设备方面有超过 20 年的研发经验，掌握着国际无掩模光刻技术的源头，拥有成熟的大功率蓝紫激光光源、高分辨率光学引擎、大面积高精度移动平台、数据转换和控制软件及高速数据处理和传输系统等光刻设备内部的关键技术，特别适合于高精度电路板、大面积平板显示、半导体集成电路光刻、集成电路高密度封装、触摸屏、大面积光掩模板、光化学精密加工等领域的应用。

　　新诺科技志在打造我们国家“高速大面积光刻设备的航空母舰”！