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一、产品介绍
负性光刻胶HN-001是一款专门用在ITO膜上起抗蚀刻保护的一种产品，分辨率10微米，具有耐酸蚀刻性能特优，附着力好，线路清晰，易碱溶剥离的特点，特别适用于在半自动及全自动大批量生产中使用。
技术指标
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型号Model
特性 Features
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HN-001
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颜 色
Color
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浅棕色
Light brown
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粘度(25℃,涂-4杯)
Viscosity (25℃,涂-04Ef)
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15±3s（注1）
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涂膜厚度（干膜厚度）
Film thickness
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7～10微米
7～10μm
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预烘温度
Pre baking temperature
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80±5℃，5～10Min
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曝光方式
Exposure mode
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非接触式曝光
Non contact exposure
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曝光能量
Exposure energy
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60~150mJ
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曝光级数（21级曝光尺）
Exposure series
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5～7级
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密 著 性
Adhesion
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100/100
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分辨率
resolution
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10μm
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显影性
Developing
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0.2%Na2CO4水溶液，30±2℃，1Min
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后烘（可选）
After drying
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120℃，5Min
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油 墨 去 除
Removal of Film
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专用褪墨液，室温<2min,45℃<1min
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包 装
Package
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5Kg/桶
5kg/p
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贮藏期（10~25℃暗处保管）
Shelf life at（10~25℃ in a dark place）
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6 个月
6 months
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