防焊曝光机维修EXP-2001B

· ORC 手動5KW 平行曝光機 EXM-1201-F
· ORC 手動5KW 曝光機HMW-201B-5K
· ORC 手動7KW 曝光機 HWM-680-GW
· ORC SOLDER MASK自動曝光機Model:EXP-2001B
· ORC 外層自動曝光機Model:EXP-2050
· ORC 內層乾膜5KW平行自動曝光機 Model:EXM-2010-B-A
· ORC 內層濕膜7KW散射光自動曝光機 Model:EXM-2010-B-S
· ORC 外層半自動CCD自動對位曝光機 Model:EXP-2951
· ORC 防焊半自動CCD對位曝光機 Model:EXP-2950

· ORC 1,2,3,4,6分割露光裝置 外層/綠漆 Model:EXP-2021

· ORC 垂直式投影露光裝置 Model:EXP-2330

特性簡介：
1. 適用於乾膜細線路曝光用。
2. 平行光光源，平行半角2.5°，傾斜角2.5°實現高解析度。
3. 採用雙框，兩面一次曝光，產能高。
4. 採用ORC專利之能量控制器，實現高穩定之曝光。
5. 使用單燈，兩面曝光，生產成本較低。
 

特性簡介：
1. 採用5KW燈管，適用於乾膜線路曝光之曝光機。
2. 採用雙框、雙面同時曝光系統及高均勻度反射罩， 實現高解析度及高信賴度之生產品質。
3. 有效曝光面積24"×32"。
4. 全機封閉式設計，不會影響工作環境。
5. 上下燈共有八組獨立之能量控制。適用於多種不同乾膜能量之設定。
6. 採用ORC專利之能量控制器，確保高穩定性信賴度之生產良率。

特性簡介：
1. 採用7KW高照度燈管，適用於乾膜防焊及溼膜防焊油墨之曝光使用。
2. 採用雙框、雙面同時曝光系統，及高照度燈管高反射率反射罩，實現高照度30mw/cm2以上 ，高均勻度80%以上高產能之要求。
3. 有效曝光面積24"×32"。
4. 高效率冷凍系統設計，內建恆溫控制器，不斷偵測曝光室溫度變化，藉由PLC控制，
達到恆溫控制維持曝光室、曝光檯面之溫度，確保底片即板子不受溫度變化影響，提高生產良率。
5. 全機封閉式設計，確保不會影響工作環境。
6. 以下燈共有八組獨立的能量控制，適用於多種不同油墨及能量之設定。
7. 具ORC專利之能量控制器，確保高穩定性、高信賴度之生產良率。

特性簡介：
1. 高照度、高產能。利用高反射率反射鏡、光學玻璃10KW燈管。
2. 高對位精度。利用CCD對位系統，實現對位精度±10um。
3. 高良率設計。利用CCD對位系統。實現曝光前對位精度確認，實現100%對位曝光良率之保證。
4. 實現完全自動化設計。可外接投板機收板機及其他製程完全連線搭配。
5. 恆溫控制。具曝光玻璃及板溫控制系統，減少油墨軟化之不良產生。實現高安定性之曝光環境。
6. 實現低成本高效率生產。採用高透光性光學玻璃，實現低成本之生產效率。
7. 操作簡易。採用LCD TOUCH PANEL，內建中文對答式操作系統，實現高效率簡易操作。

ORC 外層自動曝光機 Model EXP-2050 联系人电话技术人员 徐工13913148881 luckyderui@163.com www.suzhou-pcb.com
 

特性簡介：
1. 高解析度。利用平行光，可實行線寬線距60um之解析度 。
2. 高照度、高產能。最大產量19secs/pnl。
3. 高對位精度。利用CCD對位系統，實現對位精度±10um。
4. 高良率設計。利用CCD對位系統。實現曝光前對位精度確認，實現100%對位曝光良率之保證。
5. 實現完全自動化設計。可外接投板機及收板機。
6. 恆溫控制。並可加裝恆溫控制及自動底片清潔裝置，HAPA空氣濾清系統，提高高穩定性，信賴性的曝光工作環境。
7. 機台體積小，不佔空間。
8. 單燈雙框公用系統，提高光源使用率至96%以上，減少生產成本。
9. 利用高反射率反射鏡，實現高平行度之平行光。
10. 操作簡易。採用LCD TOUCH PANEL，內建中文對答式操作系統，實現高效率簡易操作。

ORC內層乾膜自動曝光機5KW平行光5KW EXM-2010-BA

ORC內層濕膜自動曝光機散射光7KW EXM-2010-BS

ORC外層半CCD自動曝光機 EXP-2951

ORC防焊半CCD自動曝光機 EXP-2950