钨靶材W靶材磁控溅射靶材

点击图片查看原图
 
品牌: 晶迈中科
规格: 根据客户要求定制
单价: 1000.00元/片
起订: 1 片
供货总量: 10 片
发货期限: 自买家付款之日起 21 天内发货
所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-02-18 09:48
询价
 
公司基本资料信息
详细说明
 科研实验专用钨靶材W靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       钨(W)经过冶炼后的是银白色有光泽的金属,熔点极高,蒸气压很低,蒸发速度也较小,化学性质也比较稳定硬度高,常温下不受空气侵蚀;约50%用于优质钢的冶炼,约35%用于生产硬质钢,约10%用于制钨丝,约5%其他用于其他用途。钨可以制造枪械、火箭推进器的喷嘴、穿甲弹、切削金属的刀片、钻头、超硬模具、拉丝模等等,钨的用途十分广泛,涉及矿山、冶金、机械、建筑、交通、电子、化工、轻工、纺织、军工、航天、科技、各个工业领域。
产品参数
中文名称:钨  化学式 W
沸点 5555℃   熔点 3422℃
密度 19.25g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
 
更多>本企业其它产品
氧化镁靶材MgO磁控溅射靶材 碳化硅靶材SiC磁控溅射靶材 聚四氟乙烯靶材PTFE靶材磁控溅射靶材 三氧化钨靶材WO3硫化锌靶材ZnS靶材 二硫化钨靶材WS2靶材磁控溅射靶材 六硼化镧靶材LaB6磁控溅射靶材 氧化镍靶材NiO磁控溅射靶材 铬靶材Cr磁控溅射靶材
0相关评论
业务咨询微信
行业交流微群
业务咨询QQ:触摸屏技术,触摸屏报价,触摸屏软件咨询 805568462 触摸屏软件开发:触摸屏软件,触摸查询系统,触摸查询软件 893008608 媒体合作QQ: 893008608
网站广告、经销商加盟、触摸屏软件销售: 028-85108892 13183843395 028-66219290 联系人: 张小姐
地址:成都市高升桥东路2号高盛中心1109室 电子邮件: 43361182@51touch.com
@2020 51Touch.Com All rights reserved 蜀ICP备05002005号