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LH-07型CMP浆料是联禾生产的新一代高纯度蓝宝石基片抛光浆料，适用于蓝宝石衬底片和蓝宝石窗口片的表面平整化加工。该产品粒径分散度低、稳定性好、浓度高、可循环使用。尤其对窗口片具有较高的材料去除速率，抛光后基片表面易清洗。该产品适用于蓝宝石衬底片、窗口片的粗抛和精抛，加工后表面质量符合工业生产的要求。
主要特点
LH-07型蓝宝石基片CMP浆料选用纳米SiO2水溶胶作为磨料，具有抛光后易清洗、材料去除速率高、抛光划伤少、平整度高等优点。抛光浆料中含复配的抛光加速剂和极少量表面活性物质，能够在抛光过程中保证质量传输的一致性，提高抛光效率。抛光中根据需要可以优化不同配比以达到最佳使用效果。与国内外同类产品相比，该产品在CMP过程中无结晶，划伤等问题，抛光速率较快且产品性能稳定。
主要用途
主要用于2、4、6英寸等蓝宝石基片的高质量平整化精加工工艺。
基本参数
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pH值 |
比重 |
粘度25℃ |
磨料粒径 |
外观 |
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9.30—10.50 |
1.270—1.290 |
2.5—5.0 |
100-120nm |
乳白色 |
使用方法
LH-07型蓝宝石浆料建议和去离子水的配比为1:1或1：2,也可根据实际工艺要求改变配比。
运输及保存
1、 运输与存放温度为5-50℃，25℃为最佳存放温度，存放时应避光，以避免浆料变质。
2、 保质期一年，建议半年使用。
3、 避免强电解质的接触以及其他污染。
包装规格 25KG/桶
