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苏州市石川新材料有限公司2011年注册于苏州市十全街宇鑫科技园，目前我公司主要为LCD、TP等光电企业提供工艺化学品、水处理类化学品。有合法经营化学品的相应执照和许可证以及易制毒备案等。
我公司工艺化学品主要销售的产品包括：正性光刻胶、负性光刻胶、BM光刻胶、OC胶、PS胶等，以及稀释剂、显影液、剥膜剂等。PI工艺类如NMP、BC等。以及蚀刻类：ITO蚀刻液、铝钼蚀刻液等。以及清洁用的酒精、无水乙醇、异丙醇、石油醚、丙酮等等。水处理类包括硫酸、盐酸、氢氧化钠、絮凝剂等。RZJ-380 正性光刻胶
l 概述
液晶显示器用正性光刻胶，适用于TN、STN-LCD、VFD制作，具有高感度，高粘附性，工艺宽容度大和良好的回收性能等优点，采用安全性溶剂（丙二醇单甲醚醋酸酯，PGMEA）
l 规格
RZJ-380： 30mpa·s，50mpa·s
l 匀胶曲线
l 分辨率
试验条件：
基片：单晶硅（HMDS处理） 膜厚：1.05um
前烘：100℃×90sec，热板 曝光：PLA501F
显影：RZX-3038，浸渍，23.0±0.1℃，60sec
l 侧向腐蚀
试验条件：
基片：ITO玻璃（3000A），HMDS处理 膜厚：1.55um
前烘：100℃×90sec，热板 曝光：PLA501F
显影：RZX-3038，浸渍，23.0±0.1℃，30sec
后烘：120℃×120sec，热板
蚀刻：FeCl3/HCl，温度45℃，时间：1.0倍×J.E.;1.5倍×J.E.; 2.0倍×J.E.
1.0倍×J.E 0.51um 1.5倍×J.E. 1.06um 2.0倍×J.E. 1.28um
l 推荐工艺条件
①涂布： 23℃，辊涂或旋转涂布,膜厚1.0～3.5μm
②前烘：热板100℃×90sec, 烘道80~100℃×1~3min
③曝光： 60～85mj/cm2
④显影： 23℃，RZX-3038，30~60s，喷淋或浸渍
⑤后烘：热板120℃×120sec，烘道120℃×1~2min
l 使用注意
①保存条件：密封，黄光或暗室保存，远离热源与火种，温度25℃以下
②保质期： RZJ-380-30mpa·s为6个月，RZJ-380-50mpa·s为9个月
③使用点有适当通风，使用时注意穿戴必要的防护用品。
④该产品限工业使用
⑤灭火方法：二氧化碳，干粉，1211，砂土
l 紧急救护措施
①吸入：转移至空气新鲜处，必要时进行人工呼吸或就医
②皮肤接触：肥皂水清洗后自来水清洗
③眼睛接触：流动清水清洗15分钟以上，必要时就医
④误食：就医
联系人： 唐汪来
邮 箱： twl_3600@hotmail.com
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苏州市石川新材料有限公司
Suzhou shichuan new materials co.,ltd
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地址：苏州市十全街南石皮弄5号宇鑫科技园
TEL:+86-512-65160235
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