正性光刻胶

高感度，高分辨率，对基板粘附性好，良好涂布性能。

基板 ：ITO玻璃 (30Ω)

膜厚     ：1.62μm

前烘 ：100℃ X 90sec. (热板)

曝光 ：宽曝光度

显影 ：0.8% KOH X 60sec.

后烘 ：120℃ X 120sec. (热板)

蚀刻 ：HNO3：HCl：H2O = 4：23：73 @ 40℃

剥离 ：3.0% NaOH @ 50℃ X 120sec.

结果测试条件

基板 ：ITO玻璃

膜厚 ：1.62um

前烘 ：100℃  X 90sec. 

曝光 ：60-100 mJ/cm2

显影 ：0.8% KOH X 60sec.             

 后烘 ：120℃  X 90sec

剥离 ：3.0% KOH @ 50℃  X 120sec.

分辨率测试条件

基板 ：ITO玻璃

膜厚 ：1.62um

前烘 ：100℃X90sec. 

曝光 ：85mJ/cm2

显影 ：0.8% KOH X 60sec..

曝光宽容度测试条件

基板 ：ITO玻璃

膜厚 ：1.62um

前烘 ：100℃X90sec. 

曝光 ：不同曝光能量

显影 ：0.8% KOH X 60sec..

.

不同浓度显影液测试条件

基板 ：ITO玻璃

膜厚 ：1.62um

前烘 ：100℃X90sec. 

曝光 ：不同曝光能量

显影 ：不同浓度KOH X 60sec..

ITO基板上粘附性的测试条件

基板：ITO玻璃

膜厚：1.62um

前烘：100℃X 90sec. 

曝光：60-100mJ/cm2

显影：0.8% KOH X60sec

 后烘：120℃X 90sec